佳能希望最早在今年开始出货新的低成本芯片制造机器，因为这家以相机和打印机而闻名的日本公司试图削弱长期的行业领导者ASML提供制造尖端半导体的工具。

  佳能面临的挑战来自西方政府试图限制中国获得最先进的半导体技术，以及全球对芯片制造机器的需求飙升。如果成功，佳能的“纳米印记”技术能让日本制造商在过去三十年中将一些优势拱手让给韩国、台湾以及慢慢的变多的中国竞争对手。

  “我们想在今年或明年开始发货......我们大家都希望在市场火爆的时候这样做，“佳能工业集团负责人Hiroaki Takeishi说，他负责监督新型光刻机的开发。“这是一项很独特的技术，将使尖端芯片能够简单、低成本地制造出来。

  佳能的纳米压印光刻技术于10月中旬首次亮相，该技术已开发了15年以上，但该公司表示，该技术现在才在商业上可行，它将芯片设计印在硅晶圆上，而不是使用光蚀刻它们。

  佳能表示，该工艺将比总部在荷兰的ASML的市场主导和基于光的极紫外技术便宜“一位数”，并且耗电量减少90%。

  竞争对手逐渐被ASML所超越，ASML是唯一能制造高度复杂的EUV机器的集团，这些机器对台湾半导体制造公司，韩国三星电子和美国英特尔等制造商的最新一代芯片生产至关重要。

  但这家荷兰科技公司制造的机器也是制作的完整过程中最昂贵的部分，每台成本超过1.5亿美元，而且交货时间非常长，这给了佳能一些空间来推销其技术。

  “我们的目标不是从EUV中抢夺份额。但我们始终相信我们的纳米压印技术能与EUV和其他技术共存，并为行业的整体增长做出贡献，“Takeishi说。

  尽管佳能乐观地认为它可以开辟一个利基市场首先专注于3D Nand内存芯片，而不是更复杂的微处理器但分析师对它能产生的影响持怀疑态度。

  “这项技术并不是什么新鲜事......如果纳米压印技术是一项卓越的技术，我认为它现在已经启动并运行，并在市场上大量运行，“研究公司Radio Free Mobile的创始人Richard Windsor说。

  佳能面临的最大挑战之一是提高其实现更高水平的小型化的成功率。它从5纳米(或十亿分之一米)的电路宽度节点开始，目标是达到2纳米。

  Takeishi不会从纳米压印机中获得潜在产量 - 生产的芯片中被认为无缺陷且可运送给客户的比例 - 但分析师表示，它需要接近90%才能与EUV竞争。

  “关于缺陷风险，我认为我们的技术已在很大程度上解决了这样的一个问题，”Takeishi说。“但是，由于现有的芯片制造工艺已经针对EUV进行了优化，因此在引入新技术方面显然会遇到各种困难。

  因此，第一批交付将处于试用期，佳能必须说服客户，将新机器集成到现有制造工厂的努力是值得的。该公司表示，没有必要进行重大的布局更改，但需要一些额外的设备，例如清洁机械和口罩生产。

  分析人士的一个希望是，佳能可能能够将这些机器出售给中国，由于美国的出口管制，ASML无法再利用其先进工具做到这一点。然而，日本自己的出口管制旨在与华盛顿保持一致，更广泛地针对先进的半导体制造设备，这让佳能感到困难。

  “除了仔细关注这样的一个问题之外，没太多选择，”当被问及该公司在开发纳米压印光刻机时考虑了多少制裁风险时，Tateishi说。“现在已经到了没人知道风险在哪里的地步。

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